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硅片洗濯装备
硅片洗濯手艺与装备
适用于（6寸、8寸）晶圆湿法洗濯，其原理是使用种种化学药液与晶圆外貌种种杂质粒子（颗粒、有机物、金属污染物、氧化物）爆发化学反应，天生溶于水的物质，再用高纯水冲洗，依次去除晶圆外貌的种种杂质。
□ 装备特点
1.QDR快冲快排，快速冲洗去除微粒杂质及残留化学药剂，同时有用镌汰晶圆洗濯后接触空气生产的氧化膜 ；
2.超（兆）声系统，高效、无损伤地洗濯产品 ；
3.准确的药液控制，精准控制洗濯液配比，为稳固的洗濯品质提供基础 ；
4.严酷的气体管控，确保事情情形及职员清静。废气排放处置惩罚切合环保要求。